再获新突破!中国光刻机升级完成,有人比ASML还“焦虑”?

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导语:科技的发展,让全球芯片之争愈加激烈。近一两年来,欧美国家为打击我国半导体产业,频频断供芯片,让中国的芯片发展之路变得困难重重。然而,近日我国光刻机的一项新突破,让很多人开始不淡定了。

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中国光刻机再获突破

一直以来,光刻机都是生产芯片的关键设备,而我国半导体领域发展受挫的主要原因也是因为美国限制荷兰ASML对我国出口先进的光刻机。

但也正因为美国和一些西方国家各种敌对我国,让我国一些国产科技企业不得不相互合作,共同发展。

据报道,国内最大的光刻机厂商,上海微电子传出消息称,自主研发的28纳米光刻机已经通过认证,将在今年完成交付并正式投入使用。

值得一提的是,上海微电子研发的这款光刻机其精度跟ASML的DUV光刻机一模一样。据悉,英特尔就是使用该DUV光刻机才制造出10纳米芯片,台积电更是利用该设备,让7纳米芯片率先完成量产。这也意味着,我国完全有可能由目前的28纳米芯片技术直接跳跃到7纳米芯片技术。另外,就我国目前的国情来说,28纳米芯片已经能够满足大部分市场需求,它的研发,给予我国国产芯片事业极大的信心。

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ASML不淡定,美国更不淡定?

我国国产28纳米光刻机成功研发的消息一出,荷兰ASML就开始坐立难安。中国作为全球芯片需求量最大的市场,如今有了自己的光刻机技术,势必就不再依赖进口。为了重新操控中国市场,ASML立刻降价倾销上一代光刻机。但并不是所有国人都乐意买账,毕竟之前我们最需要的时候,ASML不能供货,而今又为中国市场各种讨好,甚至还企图阻碍我国高端技术领域的发展,实在算不上是君子所为。

除了ASML之外,美国的紧张感可以说是有过之而无不及。一直以来,各国对于中国半导体的打压都是为了讨好美国,而今,中国的光刻机有了新的突破,美国很有可能因此失去全球半导体产业的主导权。

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光刻机发展刻不容缓

我国是一个芯片需求极大的国家,每年对外需求的芯片达到了3000亿,占据全球30%的比例。不管是为了避免被卡脖子,还是为了国家国防安全,打造一条属于中国自己的半导体产业链刻不容缓。

虽说,这一两年来,我国确实在半导体领域取得重大突破,但是我们的光刻机水平和ASML、台积电等行业巨头差距还是比较明显。想要真正突破受制于人场面,还是需要更多的精力投入。

结语:美国对我们现有的芯片技术封锁,确实给我们的半导体发展带来一定压力,但也正是被压迫,所以国人才会更加坚定芯片自研的决心。无论如何,国产企业都必须立足长远目标,真正实现芯片自主。

标签: 高端光刻机的进展

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